Sous-Épreuve E42 - BTS Systèmes Photoniques - juin 2019

Brevet de Technicien Supérieur

Systèmes Photoniques

Épreuve E4 : Étude d'un système optique

Sous-Épreuve E42 : Conception et industrialisation d’un système optique

Durée : 3h - Coefficient 2

Microscope interférentiel

Domaine d’études : Une entreprise de métrologie METROPLUS effectue des prestations pour un fabricant de verre de lunettes. Ce fabricant a changé très récemment ses moules et souhaite vérifier l’état de surface des verres réalisés. Pour cela, il contacte l’entreprise METROPLUS pour savoir si elle peut mesurer :

• les profils 3D de gravure (largeur et profondeur) du verre.
• l’état de surface de celui-ci au centre du verre.

Partie 1 : Analyse des modes de fonctionnement du microscope et de l’optique correspondant.

Le but de cette partie est d’analyser les différents modes de fonctionnement du microscope. On étudiera plus spécifiquement les éléments de la partie optique de l’appareil.

Partie 2 : Étude du réglage de la platine, support de l’échantillon à mesurer et du principe d’acquisition du profil de cet échantillon.

Le questionnement proposé va permettre d’étudier l’horizontalité de la platine supérieure où est posé l’échantillon puis l’algorithme de traitement d’image du mode VSI.

Partie 3 : Analyse et validation de la définition du profil de l’échantillon à mesurer.

Dans cette partie, on s’intéresse à la mesure de l’état de surface au milieu du verre. Il est supposé plan étant donné le rayon de courbure important. Le mode PSI sera utilisé pour la mesure. On cherche donc à valider la capacité du système à réaliser 4 acquisitions d’images décalées pour la reconstitution du profil de la pièce.

Partie 4 : Réglage de la lampe du microscope pour optimiser la position du filament au foyer du miroir sphérique.

Le filament de la lampe est placé dans le plan focal d’un miroir sphérique (que l’on installe dans le microscope pour effectuer ce réglage) lorsque l’on place l’ampoule dans son support. On se propose dans cette partie de déterminer une méthode de réglage de la position du filament.